客观的
脑干是一个紧凑而精巧的结构。外科医生必须有良好的解剖学知识,知道安全的穿刺点,以安全地切除内在病变。位于外侧中脑表面的病变最好通过外侧中脑沟(LMS)接近。本研究的目的是比较颞下(ST)入路与小脑上幕下(SCIT)入路的中位和极外侧变异入路对LMS的手术暴露。
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这3种入路应用于10具尸体头部。作者使用神经导航系统对预定点进行测量。确定显微手术暴露面积和入路角度。进行了统计分析,以确定各自暴露的显著差异。
结果
不同入路的手术暴露相似——369.8±70.1 mm2ST;341.2±71.2毫米2对于SCIT的辅助变量;312.0±79.3 mm2对于SCIT极外侧变异(p = 0.13)。然而,ST型的垂直角度暴露为16.3°±3.6°,SCIT旁位变异的垂直角度暴露为19.4°±3.4°,SCIT极外侧变异的垂直角度暴露为25.1°±3.3°(p < 0.001)。水平角度曝光ST为45.2°±6.3°,SCIT旁位变异为35.6°±2.9°,SCIT极侧向变异开口为45.5°±6.6°,在ST和极侧向变异之间没有差异(p = 0.92),但两者都优于旁位变异(p < 0.001)。数据以平均值±标准差表示。
结论
极外侧SCIT入路手术暴露面积较小;然而,这些差异在统计学上并不显著。与其他开颅术相比,极外侧SCIT入路对LMS的垂直和水平角度更宽。此外,它提供了一个90°的轨迹到沟,便于术中显微手术技术。